海外媒体记者纷纷举起相机，镜头对准他的脸，等待着一个合理的解释。

马元龙脸上依旧带着从容的微笑，抬手示意技术团队切换画面。

大屏幕上立即出现深蓝半导体二号车间的实时画面，65纳米光刻机正高速运转，而工艺却与正常生产有所不同。

“这位记者朋友可能对光刻技术不够了解。”马元龙的声音透过音响清晰传来，“通过多重曝光技术，65纳米光刻机完全可以实现45纳米芯片的稳定生产，这在行业内并非个例，只是深蓝半导体首次实现了规模化应用。”

他指向屏幕上的光刻流程演示：“通过两次精准曝光与套刻校准，深蓝半导体将线宽误差控制在±0.004微米以内，良率稳定在88%以上。”

随着他话音落下，技术团队已经将龙科院的检测报告扫描件展示在大屏上。

报告中“45纳米芯片量产良率88.3%”“线宽误差±0.0037微米”等关键数据用红色方框标注，清晰醒目。

这一刻，不管是现场的观众，还是观看直播的网友，都是异常震撼，直播画面中，无数的弹幕飘过！

“这技术突破也太牛了！用65纳米设备造45纳米芯片，深蓝半导体藏得够深啊！”

“龙科院的检测报告都放出来了，数据造假根本不可能，这波实锤了！”

“以前总被国外卡脖子说我们造不出先进芯片，现在打脸来得猝不及防！”

“启明3代这配置，放在中端机里直接杀穿，坐等价格公布！”

“多重曝光，真是让人意外的技术！”

……